高溫提純爐用石墨坩堝：使用場景與保護關鍵
    高溫提純爐用石墨坩堝憑借共同性能，在多個高純度材料生產范疇發揮著關鍵作用，而科學的使用與保護方法，更是延伸其壽數、保證提純質量的中心。
    需求高溫提純爐用石墨坩堝。
    在光伏與半導體范疇，它是多晶硅定向凝固提純的 “中心容器”。當硅料在坩堝內被加熱至 1420℃熔融狀況時，超高純石墨原料避免了雜質遷移，配合坩堝內壁的不粘特性，使硅料與坩堝別離時削減殘留，最終取得純度 99.9999% 以上的電子級多晶硅。在化合物半導體（如磷化銦、氮化鎵）提純中，坩堝的化學惰性可避免物料與容器產生反響，確保化合物成分安穩。
    稀有金屬提純場景中，該坩堝同樣表現卓越。提純鉭、鈮等難熔金屬時，爐內溫度常達 2500℃以上，石墨坩堝的耐高溫特性使其可重復使用數十次而不變形。在真空蒸餾提純稀土金屬時，坩堝的氣密性規劃削減了揮發物損失，提升金屬回收率達 98% 以上。
    正確的保護方法能顯著提升坩堝使用壽數。初次使用前，需在惰性氣體保護下進行梯度預熱（從 200℃逐步升至 1000℃），徹底去除吸附的水分與氣體，避免高溫下產生爆裂。每次使用后，應待坩堝自然冷卻至室溫，再用專用毛刷整理內壁殘留物料，制止使用硬質工具刮擦，避免破壞表面光潔度。
    存儲時需注意防潮防磕碰，應將坩堝垂直放置在枯燥通風的專用支架上，避免堆疊受壓。若長時間停用，需用鋁箔包裹密封，避免空氣中的雜質附著。對于出現細小裂紋的坩堝，應立即停用替換，避免在高溫下裂紋擴展導致物料泄漏，影響提純效果乃至引發安全事故。