高溫提純爐用石墨坩堝：運用場景與維護要害
    高溫提純爐用石墨坩堝憑仗一起功用，在多個高純度材料生產(chǎn)領域發(fā)揮著要害作用，而科學的運用與維護方法，更是延伸其壽數(shù)、保證提純質量的中心。
    需求高溫提純爐用石墨坩堝。
    在光伏與半導體領域，它是多晶硅定向凝結提純的 “中心容器”。當硅料在坩堝內(nèi)被加熱至 1420℃熔融情況時，超高純石墨材料避免了雜質搬遷，合作坩堝內(nèi)壁的不粘特性，使硅料與坩堝分別時減少殘留，終究取得純度 99.9999% 以上的電子級多晶硅。在化合物半導體（如磷化銦、氮化鎵）提純中，坩堝的化學慵懶可避免物料與容器產(chǎn)生反響，保證化合物成分安穩(wěn)。
    稀有金屬提純場景中，該坩堝相同表現(xiàn)杰出。提純鉭、鈮等難熔金屬時，爐內(nèi)溫度常達 2500℃以上，石墨坩堝的耐高溫特性使其可重復運用數(shù)十次而不變形。在真空蒸餾提純稀土金屬時，坩堝的氣密性規(guī)劃減少了揮發(fā)物損失，進步金屬回收率達 98% 以上。
    正確的維護方法能顯著進步坩堝運用壽數(shù)。初度運用前，需在慵懶氣體維護下進行梯度預熱（從 200℃逐步升至 1000℃），完全去除吸附的水分與氣體，避免高溫下產(chǎn)生爆裂。每次運用后，應待坩堝自然冷卻至室溫，再用專用毛刷整理內(nèi)壁殘留物料，制止運用硬質東西刮擦，避免損壞表面光潔度。
    存儲時需注意防潮防磕碰，應將坩堝垂直放置在單調通風的專用支架上，避免堆疊受壓。若長期停用，需用鋁箔包裹密封，避免空氣中的雜質附著。對于呈現(xiàn)纖細裂紋的坩堝，應立即停用替換，避免在高溫下裂紋擴展導致物料泄露，影響提純作用甚至引發(fā)安全事故。

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